|
Mit dem Scheibenlaser zu große Stückzahlen
bei Mikrobauteilen >> Applikationsnotiz
In der Leistungselektronik erfolgt nahezu jährlich eine Halbierung
der Bauelementgrößen. Mit steigenden Absatzzahlen in
der Konsumelektronik erhöhen sich auch die Produktionsmengen
der hochkonstanten Induktivitäten auf Keramikbasis, die für
Platinen und Elektronikbaugruppen benötigt werden. Diese Mikrobauteile
werden in der Regel mit dem Laser mikrostrukturiert und anschließend
vereinzelt.
Der Scheibenlaser ermöglicht eine wirtschaftliche Produktion
Dank hoher Bearbeitungsgeschwindigkeiten und geringem Nachbearbeitungsaufwand
Mithilfe der sehr hohen Pulsintensität lässt sich die
bei Oxidkeramiken für die infrarote Wellenlänge ungünstige
Absorptionsschwelle sehr schnell überwinden. Die entsprechend
gewählte Pulsenergie und das definierte Puls-Pausen-Verhältnis
bringen einen kontrollierten Schneid- oder Strukturierprozess in
Gang. Dies ist ein wesentlicher Vorteil der Güteschaltung
mit entsprechender Pulsunterbrechung. Gleichbleibende Ritztiefen
und in der Toleranz liegende Dimensionen reduzieren den Ausschuss
und den Nachbearbeitungsaufwand erheblich.
Es wurden in industriellen Anwendungen beim Ritzen von Keramiken,
Vorschubgeschwindigkeiten von 10 000 mm pro Minute und Spaltbreiten
von circa 8 µm mit dem Scheibenlaser und entsprechenden Maschinenkonzepten
realisiert.
Typische Anwendungsfelder in der Elektronik sind Mikroperforieren
von Platinen, Schneiden und Strukturieren von Keramiken und Keramiksubstratträgern,
Sacklochbohrungen in Platinen und Bauteilen, Strukturieren, Schneiden
und Bohren von Kupferfolien.
Die Vorteile des Scheibenlasers in der Elektronikanwendung auf
einem Blick:
• Hohe Stückzahlen und Prozessgeschwindigkeiten
• Reduzierter thermischer Einfluss auf Elektronikbauteile
• Feinste Strukturen möglich
• Hohe Puls zu Puls-Stabilität
• Kleinste Strahleintrittsdurchmesser
• Niedrige Betriebskosten
|
|

Keramiksubstratträger mit dem Laser geschnitten

Keramiksubstrat nach Laser-ritzvorgang mit mit
8 µm Spurbreite

Schnittverlauf in 1 mm starker Si-Keramik
|
|